样品制备仪器
磁控溅射沉积系统
日期：2023-10-24
仪器设备简介:
生产厂家：沈阳科学仪器研制中心有限公司
型号：JGP-560C
主要特点：2个UHV 腔室,包括Loadlock及Sputtering, 极限真空<3E-9Torr，考夫曼离子源, Ion Energy 100-600eV, 100-1200eV; Ion Beam Current:20-200mA, Ф100基板刻蚀均匀性<±3%，基板与靶材距离连续可调。
样品要求：适用于常见基底。
技术参数：基板加热温度范围 RT-900ºC。
